[实用新型]一种用于高氯砷生产的真空升华装置有效
| 申请号： | 201520521685.4 | 申请日： | 2015-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN204779760U | 公开（公告）日： | 2015-11-18 |
| 发明（设计）人： | 何志达;胡生海;朱刘;郭金伯;杨林锟 | 申请（专利权）人： | 广东先导稀材股份有限公司 |
| 主分类号： | C22B30/04 | 分类号： | C22B30/04;C22B9/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵青朵 |
| 地址： | 511517 广东省清远市清新县禾*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请属于高纯砷领域，尤其涉及一种用于高纯砷生产的真空升华装置。本申请提供的真空升华装置包括：真空罐；所述真空罐内腔中设置有储料容器、沉积管和冷凝罩；所述储料容器设置在真空罐内腔底部，开口朝上；所述沉积管设置在储料容器上方，所述沉积管的进料端与所述储料容器的开口端相接触，且所述沉积管的出料端外壁设置有挡板；所述冷凝罩开口朝下，且所述冷凝罩通过挡板支撑在沉积管的出料端。本申请通过在沉积管的出料端设置冷凝罩，使低沸杂质蒸汽尽可能在冷凝罩中沉积，从而减少了低沸杂质蒸汽在真空罐内壁的沉积量，降低了低沸杂质对真空罐内壁的污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 高氯砷 生产 真空 升华 装置 | ||
【主权项】：
一种用于高氯砷生产的真空升华装置，包括：真空罐；所述真空罐内腔中设置有储料容器、沉积管和冷凝罩；所述储料容器设置在真空罐内腔底部，开口朝上；所述沉积管设置在储料容器上方，所述沉积管的进料端与所述储料容器的开口端相接触，且所述沉积管的出料端外壁设置有挡板；所述冷凝罩开口朝下，且所述冷凝罩通过挡板支撑在沉积管的出料端。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东先导稀材股份有限公司，未经广东先导稀材股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201520521685.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
