[实用新型]一种磁控溅射离子镀双层膜用炉

摘要

本实用新型公开一种磁控溅射离子镀双层膜用炉，包括炉体、第一侧置靶材、第二侧置靶材、第一侧置挡板、第二侧置挡板、第一中频离化器、第二中频离化器、旋盘、工件架、中置靶材、中置挡板。炉体具有一中空腔体，旋盘位于中空腔体内并转动设于炉体底部；中置靶材位于中空腔体中部，中置挡板安装于中置靶材外侧；第一侧置靶材及第二侧置靶材分别位于中置靶材的两侧；第一中频离化器及第二中频离化器位于第一侧置挡板及中置靶材之间；工件架转动设于旋盘上。通过设计一种磁控溅射离子镀双层膜用炉，提高磁控溅射离子镀膜生产自动化程度，实现工件在一道工序过程中完成两道镀膜工序，减少能耗、提高生产效率与良率。

主权项

一种磁控溅射离子镀双层膜用炉，其特征在于，包括：炉体、第一侧置靶材、第二侧置靶材、第一侧置挡板、第二侧置挡板、第一中频离化器、第二中频离化器、旋盘、工件架、中置靶材、中置挡板；所述炉体具有一中空腔体，所述旋盘位于所述中空腔体内并转动设于所述炉体底部；所述中置靶材位于所述中空腔体中部，所述中置挡板安装于所述中置靶材外侧；所述第一侧置靶材及所述第二侧置靶材分别位于所述中置靶材的两侧，所述第一侧置挡板位于所述第一侧置靶材及所述中置靶材之间，所述第二侧置挡板位于所述第二侧置靶材及所述中置靶材之间；所述第一中频离化器位于所述第一侧置挡板及所述中置靶材之间，所述第二中频离化器位于所述第二侧置挡板及所述中置靶材之间；所述工件架转动设于所述旋盘上，所述工件架转动于所述第一侧置挡板与所述第一中频离化器之间，及转动于所述第二侧置挡板与所述第二中频离化器之间。