[实用新型]复合卷绕ITO柔性基材单鼓立式连续磁控溅射真空设备有效
| 申请号： | 201520531413.2 | 申请日： | 2015-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN204918748U | 公开（公告）日： | 2015-12-30 |
| 发明（设计）人： | 庄志杰;周钧;刘战合 | 申请（专利权）人： | 赛柏利安工业技术（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56;C23C14/08 |
| 代理公司： | 江苏银创律师事务所 32242 | 代理人： | 王纪营 |
| 地址： | 215024 江苏省苏州市苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种复合卷绕ITO柔性基材单鼓立式连续磁控溅射真空设备，所述的卷绕柔性薄膜真空沉积系统包括两个分隔开的相互独立的低真空腔体和高真空腔体，所述低真空腔体与高真空腔体之间设置有高低真空隔板；所述低真空度腔体设置有可沿着水平轨道开合的第一移动门；所述高真空度腔体装设有第二移动门。所述高真空腔体内围绕着立式单鼓周围均布了多对立式中频平面的非平衡阴极，每对非平衡阴极均设置有自隔气的整体式的封闭屏蔽罩和各自独立的工艺气体供气系统。本实用新型结构简单，使用方便，常温下可以高效率的工作，该设备能够采用常温物理气相沉积，透明导电薄膜沉积光、电指标稳定，微观结构一致。 | ||
| 搜索关键词： | 复合 卷绕 ito 柔性 基材 立式 连续 磁控溅射 真空设备 | ||
【主权项】：
一种复合卷绕ITO柔性基材单鼓立式连续磁控溅射真空设备，其特征在于：所述的卷绕柔性薄膜真空沉积系统包括两个分隔开的相互独立的低真空腔体和高真空腔体，所述低真空腔体与高真空腔体之间设置有高低真空隔板；所述低真空度腔体设置有可沿着水平轨道开合的第一移动门；所述高真空度腔体装设有第二移动门；所述第二移动门通过铰链与高真空度腔体铰接连接；所述高真空腔体内围绕着立式单鼓周围均布了多对立式中频平面的非平衡阴极，每对非平衡阴极均设置有自隔气的整体式的封闭屏蔽罩和各自独立的工艺气体供气系统。
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