[实用新型]一种高功率半导体激光清洗系统有效
申请号: | 201520533552.9 | 申请日: | 2015-07-22 |
公开(公告)号: | CN204892502U | 公开(公告)日: | 2015-12-23 |
发明(设计)人: | 宋涛;刘兴胜;程宁;尹霞 | 申请(专利权)人: | 西安炬光科技股份有限公司 |
主分类号: | B08B7/00 | 分类号: | B08B7/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 710077 陕西省西安市高新区*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本实用新型提出了一种高功率半导体激光清洗系统,包括清洗终端,控制器,电源及气体净化系统。所述的清洗终端可以发出高功率的脉冲激光将物体表面的污物气化,气化的污物通过所述的气体净化系统抽离物体表面,所述的控制器用于控制清洗终端,所述电源用于为清洗终端供电。该半导体激光清洗系统相比传统激光器光源的清洗系统具有较高的效率,并且体积小巧,便于手持操作。 | ||
搜索关键词: | 一种 功率 半导体 激光 清洗 系统 | ||
【主权项】:
一种高功率半导体激光清洗系统,包括清洗终端,控制器,电源及气体净化系统,所述的清洗终端用于发出高功率的脉冲激光将物体表面的污物气化,气化的污物通过所述的气体净化系统抽离物体表面,所述的控制器用于控制清洗终端,所述电源用于为清洗终端供电,其特征在于:所述的清洗终端包括半导体激光器,散热器,光学整形模块,保护罩以及壳体;所述的半导体激光器通过散热器安装于壳体内部的后端,壳体内沿着半导体激光器的出光方向设有光学整形模块,用于将半导体激光器发出激光整形为所需要的光斑;所述的壳体对应半导体激光器出光的位置设置有透光的保护窗,用于让整形后的激光光束出射及密封壳体内部;所述的保护罩设置于壳体的前端且包裹保护窗,保护窗为半开放式结构,通过安装支架与壳体连接。
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