[实用新型]一种基片加载腔有效

专利信息
申请号: 201520579969.9 申请日: 2015-08-05
公开(公告)号: CN204959031U 公开(公告)日: 2016-01-13
发明(设计)人: 李晨睿;刘传生 申请(专利权)人: 上海理想万里晖薄膜设备有限公司;理想能源设备(上海)有限公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种基片加载腔,所述加载腔的第一侧壁和第二侧壁上分别设置有用于基片进出的第一开口和第二开口,所述加载腔内包含有基片传输机构和用于改变基片温度的温度控制装置,所述基片传输机构设置于靠近所述第一开口的位置处,用于基片的传输,所述基片传输机构包括有用于承载基片的若干长条状的机械手臂,其中各所述机械手臂之间有空档空间,所述温度控制装置设置于靠近所述第二开口的位置处,所述每相邻两个机械手臂之间的空档空间中设置有能够进行升降运动的温度控制装置,本实用新型可以在一种腔室内既实现基片的温度控制功能又实现基片的传输功能,在降低传输动作的繁琐性的同时节省设备空间,从而达到降低设备成本,提高产能的目的。
搜索关键词: 一种 加载
【主权项】:
一种基片加载腔,所述加载腔的第一侧壁和第二侧壁上分别设置有用于基片进出的第一开口和第二开口,其特征在于:所述加载腔内包含有基片传输机构和用于改变基片温度的温度控制装置,所述基片传输机构设置于靠近所述第一开口的位置处,用于基片的传输,所述基片传输机构包括有用于承载基片的若干长条状的机械手臂,其中各所述机械手臂之间有空档空间,所述温度控制装置设置于靠近所述第二开口的位置处,所述每相邻两个机械手臂之间的空档空间中设置有能够进行升降运动的温度控制装置。
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