[实用新型]Wafer自动清洗机有效
| 申请号： | 201520606176.1 | 申请日： | 2015-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN204892454U | 公开（公告）日： | 2015-12-23 |
| 发明（设计）人： | 黄均学 | 申请（专利权）人： | 东莞市承恩自动化设备有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B13/00;F26B23/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 523000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种Wafer自动清洗机，包括有机架、转盘装置、高压水枪、烘干灯以及PLC控制系统；该机架具有一工作腔室，该转盘装置、高压水枪和烘干灯均设于机架上并位于工作腔室内，高压水枪和烘干灯均位于转盘装置的上方，转盘装置由第一驱动机构带动高速旋转，该高压水枪连接高压柱塞泵，高压柱塞泵由电动机带动运转；该PLC控制系统设置于机架上，前述第一驱动机构、高压柱塞泵和烘干灯均连接PLC控制系统。通过利用电动机使高压柱塞泵产生高压水来冲洗物体表面，能将污垢剥离冲走，达到清洗物体表面的目的，清洗更加干净，保证产品质量，本设备可对Wafer自动完成清洗和烘干工序，工作效率高，功能完善，自动化程度高，不需人工介入，可降低人工成本。 | ||
| 搜索关键词： | wafer 自动 清洗 | ||
【主权项】：
一种Wafer自动清洗机，其特征在于：包括有机架、转盘装置、高压水枪、烘干灯以及PLC控制系统；该机架具有一工作腔室，该转盘装置、高压水枪和烘干灯均设置于机架上并位于工作腔室内，且高压水枪和烘干灯均位于转盘装置的上方，转盘装置由第一驱动机构带动而高速旋转，该高压水枪连接高压柱塞泵，高压柱塞泵由电动机带动运转；该PLC控制系统设置于机架上，前述第一驱动机构、高压柱塞泵和烘干灯均连接PLC控制系统。
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