[实用新型]基于非牛顿流体的抛光系统有效
| 申请号： | 201520620731.6 | 申请日： | 2015-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN204976294U | 公开（公告）日： | 2016-01-20 |
| 发明（设计）人： | 吕鸿图;施武助;向定艾;徐维浓 | 申请（专利权）人： | 昆山纳诺新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B31/00 | 分类号： | B24B31/00;B24B31/116;B24B31/12;B24B31/14;B24B41/06;B24B49/00;B24B1/00 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 尹淑梅;刘灿强 |
| 地址： | 215300 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种基于非牛顿流体的抛光系统。抛光系统包含抛光工具装置、非牛顿流体辅助装置及控制装置。抛光工具装置用以带动工件于容置有非牛顿流体的抛光容器中进行位移，且非牛顿流体中具有磨料。非牛顿流体辅助装置用以利用压力、速度、振动或超声波频率的变化，而改变非牛顿流体的黏度，以利用磨料对工件进行抛光。控制装置用以控制抛光工具装置使工件于抛光容器中进行位移。本实用新型藉此可对具有三维形状的工件抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 牛顿 流体 抛光 系统 | ||
【主权项】：
一种基于非牛顿流体的抛光系统，其包含：抛光工具装置，配置以带动工件于容置有非牛顿流体的抛光容器中进行位移；非牛顿流体辅助装置，该非牛顿流体辅助装置连接至抛光容器，而改变非牛顿流体的黏度；以及控制装置，配置以控制抛光工具装置使工件于抛光容器中进行位移。
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