[实用新型]真空镀膜的喂料装置

摘要

本实用新型公开了一种真空镀膜的喂料装置，其可控制待镀原料喂料于蒸镀源的时机，其包含喂料模块与移动模块。其中喂料模块包含喂料盘，此喂料盘包含多个储料槽，而待镀原料则预置于储料槽内。移动模块包含旋臂，喂料盘会受旋臂连接带动而变换定位在不同的位置。喂料位置与待命位置分别位于有效蒸镀角涵盖区域的内与外。旋臂使移动模块位移至喂料位置并释放待镀原料，而后位移至待命位置。借此，利用单轴或双轴转动的拨动方式使喂料模块位移以补充待镀原料进而延长工艺时间，减少因频繁破真空补充待镀原料所耗费的时间，并降低敏感材料变质的可能。

主权项

一种真空镀膜的喂料装置，其设置于真空腔体且控制待镀原料喂料于蒸镀源的时机，其特征在于，所述真空镀膜的喂料装置包含：喂料模块，其包含喂料盘，所述喂料盘包含多个储料槽，所述待镀原料预置于其中一个所述储料槽内；以及移动模块，其包含旋臂，所述喂料盘受所述旋臂连接带动变换定位在待命位置或喂料位置，所述喂料位置位于有效蒸镀角涵盖区域内，所述待命位置则位于所述有效蒸镀角涵盖区域外，所述旋臂使所述移动模块位移至所述喂料位置而释放所述待镀原料，所述旋臂随后连接带动所述移动模块位移至所述待命位置。