[实用新型]一种可实现在磁场环境下进行热处理的装置有效
| 申请号： | 201520630072.4 | 申请日： | 2015-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN205035425U | 公开（公告）日： | 2016-02-17 |
| 发明（设计）人： | 要琛 | 申请（专利权）人： | 要琛 |
| 主分类号： | C21D1/00 | 分类号： | C21D1/00;C21D9/00 |
| 代理公司： | 广州市天河区倪律专利代理事务所(普通合伙) 44348 | 代理人： | 倪小敏 |
| 地址： | 030000 山西*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 一种可实现在磁场环境下进行热处理的装置，包括盛放待处理样品的盛放腔室以及加热待处理样品的加热器，盛放腔室与用于将盛放腔室处理为真空状态的真空设备连接，该盛放腔室外壁设置有隔热层，在盛放腔室外安装有磁场发生部件，盛放腔室位于磁场发生部件所产生的磁场范围内。本实用新型采用环形加热部件，样品摆放区域温度提升更快，提高了热处理效率，同时样品摆放区温度更加均匀，也使样品各部位受热更加均匀。采用真空环境进行热处理，也使盛放腔室内温度上升以及下降更加快速，同样提高了热处理效率，也使得样品表面更加光亮，性能更加优良。并且，样品摆放空间磁场为连续的均匀磁场，对材料热处理效果更好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 实现 磁场 环境 进行 热处理 装置 | ||
【主权项】：
一种可实现在磁场环境下进行热处理的装置，其特征在于，包括盛放待处理样品的盛放腔室（1）以及加热待处理样品的加热器（2），盛放腔室与用于将盛放腔室处理为真空状态的真空设备连接，该盛放腔室外壁设置有隔热层（3），在盛放腔室外安装有磁场发生部件（4），盛放腔室位于磁场发生部件所产生的磁场范围内。
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