[实用新型]一种薄膜磁头研磨抛光一体设备有效
| 申请号： | 201520652093.6 | 申请日： | 2015-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN204913556U | 公开（公告）日： | 2015-12-30 |
| 发明（设计）人： | 梅国清 | 申请（专利权）人： | 东莞市普华精密机械有限公司 |
| 主分类号： | B24B27/00 | 分类号： | B24B27/00;B24B41/02 |
| 代理公司： | 北京汇信合知识产权代理有限公司 11335 | 代理人： | 吴甘棠 |
| 地址： | 523053 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本新型公开了一种薄膜磁头研磨抛光一体设备，包括精磨机构和抛光机构，其还包括移动夹具和平移机构，所述的精磨机构包括追盘器、精磨盘和垂直升降单元；所述的平移机构包括第一水平移动杆和第二水平移动杆，所述的精磨机构背面分别设有精磨导航块和精磨平移限位条；所述的移动夹具背面分别设有移动导航块和移动平移限位条。本新型的平移机构设有两水平移动杆，用以引导精磨机构和抛光机构按既定轨道进行水平移动，而平移机构额外设置的水平移动导轨，则进一步增加精磨机构和抛光机构的行进动作，以使研磨抛光过程更为精确。在两水平移动杆上方分别设置的限位条配合限位条内的导航块，可在研磨及抛光移动过程中避免位置移动出错。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 磁头 研磨 抛光 一体 设备 | ||
【主权项】：
一种薄膜磁头研磨抛光一体设备，包括精磨机构和抛光机构，其特征在于：还包括移动夹具和平移机构，所述的精磨机构包括追盘器、精磨盘和垂直升降单元，所述追盘器固定于垂直升降单元上，且追盘器位于精磨盘的上方；所述的平移机构包括第一水平移动杆和第二水平移动杆，所述的精磨机构背面分别设有精磨导航块和精磨平移限位条，所述的精磨导航块与精磨机构相固定且包覆于第二水平移动杆上，所述的精磨平移限位条位于第二水平移动杆的上方；所述的移动夹具位于抛光机构的上方，移动夹具背面分别设有移动导航块和移动平移限位条，所述的移动导航块与移动夹具相固定且包覆于第一水平移动杆上，所述的移动平移限位条位于第一水平移动杆的上方。
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