[实用新型]一种抛光一体设备的定位夹持机构

摘要

本新型公开了一种抛光一体设备的定位夹持机构，包括精磨机构和抛光机构，其还包括移动夹具；所述的移动夹具包括分别固定于支架上的下压调节单元、夹持单元、定位针以及手动调节单元，所述支架前表面设有三条垂直的导槽，所述的定位针位于支架一侧以及抛光机构的上方，所述的手动调节单元穿过位于支架中央的导槽且与支架相互垂直，夹持单元固定于支架的底部，所述的下压调节单元位于夹持单元与手动调节单元之间，下压调节单元与列于两侧的两导槽配合移动。本新型的移动夹具通过设置定位针来对抛光时进行距离测量，以判断抛光深度；同时，还设置一手动调节单元，主要用以人手进行微调，以达到加工时的校正目的。

主权项

一种抛光一体设备的定位夹持机构，包括精磨机构和抛光机构，其特征在于：还包括移动夹具，所述的精磨机构包括追盘器、精磨盘和垂直升降单元，所述追盘器固定于垂直升降单元上，且追盘器位于精磨盘的上方；所述的移动夹具位于抛光机构的上方，移动夹具背面分别设有移动导航块和移动平移限位条；所述的移动夹具包括分别固定于支架上的下压调节单元、夹持单元、定位针以及手动调节单元，所述支架前表面设有三条垂直的导槽，所述的定位针位于支架一侧以及抛光机构的上方，所述的手动调节单元穿过位于支架中央的导槽且与支架相互垂直，夹持单元固定于支架的底部，所述的夹持单元由两相互分离且分列于两侧的夹块组成，所述的下压调节单元位于夹持单元与手动调节单元之间，下压调节单元与列于两侧的两导槽配合移动。