[实用新型]一种基于抽气方法的纳米涂层沉积装置有效
| 申请号： | 201520664992.8 | 申请日： | 2015-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN204959041U | 公开（公告）日： | 2016-01-13 |
| 发明（设计）人： | 杨权三;郝鹏飞;何枫 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | C23C24/08 | 分类号： | C23C24/08 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更岩 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种基于抽气方法的纳米涂层沉积装置，用于获得均匀的纳米涂层。所述装置包括稳定基座、控温平台、缓冲平台上和抽气系统，控温平台设置在稳定基座上，基底放置在控温平台。抽气系统包括抽气管、抽气缓冲腔、导气管、真空泵以及调速器。本实用新型结构简单，操作方便，无需加入添加剂或施加电场，只是利用简单的物理抽气方法，通过改变液滴内部流动方向，从而可以有效避免液滴蒸发时出现的“咖啡环”现象，使纳米颗粒在基底上沉积的更加均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 方法 纳米 涂层 沉积 装置 | ||
【主权项】：
一种基于抽气方法的纳米涂层沉积装置，其特征在于：所述装置包括稳定基座(1)、控温平台(2)、缓冲平台(6)和抽气系统；控温平台(2)设置在稳定基座(1)上；所述的抽气系统包括抽气管(12)、抽气缓冲腔(4)、连接短管(10)、导气管(9)、真空泵(8)和调速器(7)；抽气缓冲腔(4)设置在抽气管(12)上，抽气缓冲腔(4)通过连接短管(10)和导气管(9)与真空泵8连接，真空泵(8)和调速器(7)固定在缓冲平台(6)上；抽气管的底端位于控温平台上方5～10mm处。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学，未经清华大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201520664992.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：色釉五彩瓷及其制作工艺方法
- 下一篇：一种基片加载腔
- 同类专利
- 专利分类
