[实用新型]光学元件面形在位检测装置

摘要

本实用新型提供一种环抛过程中光学元件面形的在位检测装置。光学元件面形在位检测装置，按光路依次包括：平面动态干涉仪和光路转向反射镜。采用本实用新型的装置在位检测光学元件的面形时，平面动态干涉仪沿水平方向射出的测试光，经光路转向反射镜后垂直射向光学元件，透过上表面而在下表面反射后沿原路返回，与干涉仪中的参考光形成干涉，从而在位测得光学元件加工面的面形；采用本实用新型的装置可以对环抛过程中光学元件的面形进行在位检测，元件不用下盘就可获得其面形分布，进而根据获得的面形分布实时调整加工参数，以实现面形误差的收敛。本实用新型的装置可以大大减少环抛元件的面形检测时间，缩短元件的加工周期。

主权项

光学元件面形在位检测装置，其特征在于，按光路依次包括：平面动态干涉仪(2)和光路转向反射镜(5)，所述平面动态干涉仪(2)沿水平方向射出的测试光，经光路转向反射镜(5)后垂直射向光学元件，所述光路转向反射镜(5)设置在框架(3)上，所述框架(3)和平面动态干涉仪(2)设置在光学隔振平台(1)上，所述框架(3)前端的钢板呈45度倾斜朝下，所述光路转向反射镜(5)由镜框夹持，通过三个呈直角分布的拉杆固定在所述框架(3)的前端倾斜钢板上。