[实用新型]化学气相沉积或外延层生长反应器及其基片托盘和支撑轴有效

专利信息
申请号: 201520681445.0 申请日: 2015-09-06
公开(公告)号: CN204982132U 公开(公告)日: 2016-01-20
发明(设计)人: 姜勇;郑振宇 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)有限公司
主分类号: C30B25/12 分类号: C30B25/12;C23C16/458
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 徐雯琼;张静洁
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种化学气相沉积或外延层生长反应器,所述反应器内设置至少一基片托盘及其支撑轴,所述基片托盘包括一第一表面和一第二表面,所述基片托盘的第二表面设置有至少一个向内凹陷的凹进部;所述支撑轴包括:主轴部;与所述主轴部的一端相连接、并沿所述主轴部外围向外延伸开来的支撑部,所述支撑部包括一延展面;以及与所述主轴部相连接、并沿着与所述主轴部相反的方向延伸一高度的插接部;所述延展面外围设置一支撑台,所述支撑台包括一支撑面,所述基片托盘的第二表面至少部分地与所述支撑台的支撑面接触,以实现支撑轴对基片托盘的支撑。所述支撑轴可以带动基片托盘实现平稳快速转动。
搜索关键词: 化学 沉积 外延 生长 反应器 及其 托盘 支撑
【主权项】:
一种用于化学气相沉积或外延层生长反应器内的支撑轴,用以支撑基片托盘并带动其旋转,其特征在于:所述支撑轴包括:主轴部;与所述主轴部的一端相连接、并沿所述主轴部外围向外延伸开来的支撑部,所述支撑部包括一延展面;以及与所述主轴部相连接、并沿着所述延展面向与所述主轴部反方向延伸一高度的插接部;所述延展面上方环绕所述插接部设置一个或多个支撑台,所述支撑台包括支撑面用以支撑基片托盘,所述支撑面高于所述延展面一段距离。
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