[实用新型]高耐候性转印膜有效
申请号: | 201520681935.0 | 申请日: | 2015-09-06 |
公开(公告)号: | CN205130673U | 公开(公告)日: | 2016-04-06 |
发明(设计)人: | 刘锦彩 | 申请(专利权)人: | 正清国际有限公司 |
主分类号: | B41M5/382 | 分类号: | B41M5/382 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种高耐候性转印膜,该转印膜具有基材层,该基材层底面设置有以氟碳材质涂布形成的图形层,使图形层具有高耐候性、抗沾污性,藉此转印膜转印至工件后,即可增加工件的耐候性,并使工件表面呈现复杂的纹路、图样或色彩。 | ||
搜索关键词: | 高耐候性转印膜 | ||
【主权项】:
一种高耐候性转印膜,其特征在于:该转印膜具有基材层,该基材层底面设置有以氟碳材质涂布形成的图形层,该图形层表面涂布有氟碳材质的保护层。
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