[实用新型]用于中子产生系统的靶系统和中子产生系统有效
| 申请号： | 201520706804.3 | 申请日： | 2015-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN204929373U | 公开（公告）日： | 2015-12-30 |
| 发明（设计）人： | 詹文龙;杨磊;高笑菲;张雅玲 | 申请（专利权）人： | 中国科学院近代物理研究所 |
| 主分类号： | H05H6/00 | 分类号： | H05H6/00;H05H3/06 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 孙纪泉 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了用于一种中子产生系统的靶系统和一种中子产生系统。靶系统包括：用作靶体的多个固体颗粒；以及通道部件，所述通道部件具有用于固体颗粒通过的相对于水平方向倾斜的通道。根据本实用新型的实施方式，例如可以消除现有技术中产生的射流影响及减少强放射性污染问题。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 中子 产生 系统 | ||
【主权项】：
一种用于中子产生系统的靶系统，其特征在于包括：用作靶体的多个固体颗粒；以及通道部件，所述通道部件具有用于固体颗粒通过的相对于水平方向倾斜的通道。
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