[实用新型]显微设备和显微分析系统有效

专利信息
申请号: 201520711232.8 申请日: 2015-09-14
公开(公告)号: CN205027970U 公开(公告)日: 2016-02-10
发明(设计)人: 齐国生;任燕春;张承业;刘有斌;王亮;陈豪 申请(专利权)人: 北京华方神火科技有限公司
主分类号: G02B21/36 分类号: G02B21/36;G02B21/18
代理公司: 北京智汇东方知识产权代理事务所(普通合伙) 11391 代理人: 薛峰;郭海彬
地址: 100085 北京市海淀区*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供了一种显微设备和显微分析系统,显微设备包括物镜和目镜,还包括光电放大器,其包括分光镜和放大图像生成装置,分光镜设置在物镜与目镜之间的光学路径上,以将来自物镜的光线分成两路出射光线,第一路出射光线传向目镜,第二路出射光线传向放大图像生成装置,以将其的光学图像放大并生成电学图像信号。显微分析系统包括显微设备和监控设备。本实用新型的显微设备和显微分析系统,实现了无级放大功能,并且在保持有较高的分辨率的前提下,扩展了放大倍数的范围,最低放大倍数可低至4倍,最高放大倍数可达到4万倍。因此,用户可选择在超高倍数下检测超精细结构,在较小倍数下检测大的视野,使图像检测更加全面。
搜索关键词: 显微 设备 分析 系统
【主权项】:
一种显微设备,包括物镜和目镜,其特征在于还包括光电放大器,所述光电放大器包括:分光镜和放大图像生成装置,其中所述分光镜设置在所述物镜与所述目镜之间的光学路径上,以将来自所述物镜的光线分成两路出射光线,第一路出射光线传向所述目镜,第二路出射光线传向所述放大图像生成装置,且所述放大图像生成装置设置在所述第二路出射光线的光学路径上,以将所述第二路出射光线的光学图像放大并生成相应的电学图像信号。
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