[实用新型]一种铌溅射泵及真空系统

摘要

本实用新型提供了一种铌溅射泵及真空系统，属于真空技术领域，真空系统包括腔体、机械泵、分子泵、离子泵和铌溅射泵，铌溅射泵包括壳体、直流磁控溅射靶枪、惰性气体入口和挡板，直流磁控溅射靶枪为铌靶，壳体内设置有空腔，空腔与待抽真空的腔体连通；直流磁控溅射靶枪固定在壳体上且伸入壳体的内部；直流磁控溅射靶枪的工作材料为铌，惰性气体入口贯穿壳体且与空腔连通，惰性气体入口的出气口设置在腔体的靠近直流磁控溅射靶枪的一端；挡板设置在壳体的内部。铌溅射泵采用磁控溅射原理，以铌为靶材，通过溅射活性的纳米铌膜，化学吸附真空腔体中的氧和氮等气体，有效提高腔体的真空度。

主权项

一种铌溅射泵，其特征在于，包括：壳体，所述壳体内设置有空腔，所述空腔与待抽真空的腔体连通；直流磁控溅射靶枪，所述直流磁控溅射靶枪固定在所述壳体上且伸入所述壳体的内部，所述直流磁控溅射靶枪采用Nb靶；惰性气体入口，所述惰性气体入口贯穿所述壳体且与所述空腔连通，所述惰性气体入口的出气口设置在所述腔体的靠近所述直流磁控溅射靶枪的一端；挡板，所述挡板设置在所述壳体的内部。