[实用新型]分簇射孔用扶正降阻装置有效
| 申请号： | 201520729774.8 | 申请日： | 2015-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN204960904U | 公开（公告）日： | 2016-01-13 |
| 发明（设计）人： | 陈华彬;唐凯;郭晓燕;任国辉;陈建波;杨登波;欧跃强;李妍僖 | 申请（专利权）人： | 中国石油集团川庆钻探工程有限公司 |
| 主分类号： | E21B43/116 | 分类号： | E21B43/116;E21B17/10 |
| 代理公司： | 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 | 代理人： | 毛光军 |
| 地址： | 610051 四川省成都市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种分簇射孔用扶正降阻装置，包括装置本体，所述装置本体两端为连接端，装置本体上设置有至少两组滚动轴承结构，相邻两组滚动轴承结构之间具有相位差，所述滚动轴承结构包括多个沿装置本体径向均匀分布的滚动轴承，且多个滚动轴承位于同一圆周上。本实用新型用于分簇射孔作业中对下井管串在井下套管中运动时进行扶正降阻，抗冲击及径向载荷承受能力强。 | ||
| 搜索关键词： | 分簇射孔用 扶正 装置 | ||
【主权项】：
一种分簇射孔用扶正降阻装置，包括装置本体（1），其特征在于：所述装置本体（1）两端为连接端，装置本体（1）上设置有至少两组滚动轴承结构，相邻两组滚动轴承结构之间具有相位差，所述滚动轴承结构包括多个沿装置本体（1）径向均匀分布的滚动轴承（2），且多个滚动轴承（2）位于同一圆周上。
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