[实用新型]一种用于单晶制备过程中的PBN坩埚固定底座有效
| 申请号： | 201520753311.5 | 申请日： | 2015-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN204982141U | 公开（公告）日： | 2016-01-20 |
| 发明（设计）人： | 于会永 | 申请（专利权）人： | 大庆佳昌晶能信息材料有限公司 |
| 主分类号： | C30B35/00 | 分类号： | C30B35/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 163000 黑龙江省*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 本实用新型提出用于一种用于单晶制备过程中的PBN坩埚固定底座，PBN坩埚固定底座包括底座基体，所述的底座基体为前后两面平行的四棱台，底座基体的上端面为与PBN坩埚底面形状相吻合的弧面凹槽，弧面凹槽截面弧形所在圆的直径与PBN坩埚的外径相同，底座基体的宽度略大于坩埚的直径，底座基体的长度为PBN坩埚等径部分长度的3/4，弧面凹槽凹面与底座基体的侧面成圆角过渡。PBN坩埚固定底座对PBN坩埚进行有效地固定，减少应力对PBN坩埚的损伤，降低甲醇炉对PBN坩埚的磨损，从而延长PBN坩埚的使用寿命，节省生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 制备 过程 中的 pbn 坩埚 固定 底座 | ||
【主权项】：
一种用于单晶制备过程中的PBN坩埚固定底座，包括底座基体(1)，其特征在于：所述的底座基体(1)为前后两面平行的四棱台，底座基体(1)圆角的上端面为与PBN坩埚底面形状相吻合的弧面凹槽(2)，弧面凹槽(2)截面弧形所在圆的直径与PBN坩埚的外径相同，底座基体(1)的宽度略大于坩埚的直径，底座基体(1)的长度为PBN坩埚等径部分长度的3/4，弧面凹槽(2)凹面与底座基体(1)的侧面成圆角(3)过渡。
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