[实用新型]半导体器件和半导体二极管结构有效

专利信息
申请号: 201520769860.1 申请日: 2015-09-30
公开(公告)号: CN204966508U 公开(公告)日: 2016-01-13
发明(设计)人: J·C·J·杰森斯;J·皮杰卡克 申请(专利权)人: 半导体元件工业有限责任公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/06
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 刘倜
地址: 美国亚*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本公开涉及半导体器件和半导体二极管结构。根据一个实施例,提供了一种半导体器件,包括:半导体衬底,具有第一导电性类型;第一掺杂区域,具有与所述第一导电性类型相反的第二导电性类型,位于所述半导体衬底上;第二掺杂区域,具有所述第一导电性类型,邻近所述第一掺杂区域;阴极区域,具有所述第二导电性类型,位于所述第二掺杂区域内;阳极区域,具有所述第一导电性类型,位于所述阴极区域内;第一电极,电耦合到所述阳极区域;以及第二电极,电耦合到所述阴极区域和所述第二掺杂区域,其中第一掺杂区域被配置为浮动区域。本公开的一个实施例解决的一个问题是提供一种二极管结构,其使得能够相对于体衬底的电势正向偏置和负向偏置,以便增加设计灵活性并且增强不利的操作条件下的器件性能。根据本公开的一个实施例的一个用途是提供一种二极管结构,其使得能够相对于体衬底的电势正向偏置和负向偏置,以便增加设计灵活性并且增强不利的操作条件下的器件性能。
搜索关键词: 半导体器件 半导体 二极管 结构
【主权项】:
一种半导体器件,其特征在于包括:半导体衬底,具有第一导电性类型;第一掺杂区域,具有与所述第一导电性类型相反的第二导电性类型,位于所述半导体衬底上;第二掺杂区域,具有所述第一导电性类型,邻近所述第一掺杂区域;阴极区域,具有所述第二导电性类型,位于所述第二掺杂区域内;阳极区域,具有所述第一导电性类型,位于所述阴极区域内;第一电极,电耦合到所述阳极区域;以及第二电极,电耦合到所述阴极区域和所述第二掺杂区域,其中第一掺杂区域被配置为浮动区域。
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