[实用新型]晶圆切割用保护膜有效

专利信息
申请号: 201520792148.3 申请日: 2015-10-15
公开(公告)号: CN205086431U 公开(公告)日: 2016-03-16
发明(设计)人: 陈来来;葛敬银;余冲冲;叶智;叶勇 申请(专利权)人: 深圳市丰兆新材料股份有限公司
主分类号: B32B27/06 分类号: B32B27/06
代理公司: 深圳市远航专利商标事务所(普通合伙) 44276 代理人: 田志远
地址: 518000 广东省深圳市宝*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种晶圆切割用保护膜,包括设于晶圆上下两侧的高分子膜,位于晶圆下方的高分子膜的下方设有高粘膜。本实用新型采用喷涂或者浸渍的方式涂覆在晶圆层表面,可以使得高粘膜不与晶圆直接接触,切割后取下的晶片表面的污染物是粘附在高分子膜的表面,容易清除,避免了有机溶剂的大量使用,方便易于操作,节约了成本,减少了对环境的危害。
搜索关键词: 切割 保护膜
【主权项】:
晶圆切割用保护膜,其特征在于,包括设于晶圆上下两侧的高分子膜,位于所述晶圆下方的所述高分子膜的下方设有高粘膜。
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