[实用新型]晶圆切割用保护膜有效
申请号: | 201520792148.3 | 申请日: | 2015-10-15 |
公开(公告)号: | CN205086431U | 公开(公告)日: | 2016-03-16 |
发明(设计)人: | 陈来来;葛敬银;余冲冲;叶智;叶勇 | 申请(专利权)人: | 深圳市丰兆新材料股份有限公司 |
主分类号: | B32B27/06 | 分类号: | B32B27/06 |
代理公司: | 深圳市远航专利商标事务所(普通合伙) 44276 | 代理人: | 田志远 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种晶圆切割用保护膜,包括设于晶圆上下两侧的高分子膜,位于晶圆下方的高分子膜的下方设有高粘膜。本实用新型采用喷涂或者浸渍的方式涂覆在晶圆层表面,可以使得高粘膜不与晶圆直接接触,切割后取下的晶片表面的污染物是粘附在高分子膜的表面,容易清除,避免了有机溶剂的大量使用,方便易于操作,节约了成本,减少了对环境的危害。 | ||
搜索关键词: | 切割 保护膜 | ||
【主权项】:
晶圆切割用保护膜,其特征在于,包括设于晶圆上下两侧的高分子膜,位于所述晶圆下方的所述高分子膜的下方设有高粘膜。
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