[实用新型]防浓差的反射炉浇注系统有效

专利信息
申请号: 201520796931.7 申请日: 2015-10-15
公开(公告)号: CN205074527U 公开(公告)日: 2016-03-09
发明(设计)人: 邹宏辉;李祥;黄文辉;陈冠霖;卢晓军 申请(专利权)人: 厦门火炬特种金属材料有限公司
主分类号: B22D35/06 分类号: B22D35/06
代理公司: 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 代理人: 朱凌
地址: 361100 *** 国省代码: 福建;35
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摘要: 实用新型公开了一种防浓差的反射炉浇注系统,包括熔池、浇注口、流槽和闸门;所述的熔池与流槽衔接,在熔池与流槽之间设有浇注口,闸门设在流槽的末端。所述的浇注口高度与熔池内液面平齐,浇注口上宽下窄,呈“V”形,浇注口不同水平面半宽度与所在深度服从关系式:由于本实用新型根据流体力学伯努利-拉格朗日方程,设计了Al-Sn-Bi熔体近似“V”型浇注口,有效消除了熔体静置过程中由于比重差异、分层而导致的宏观铸造偏析;同时本实用新型根据Al-Sn-Bi熔体在流槽流动过程中流体化学成分-密度-流层高度的对应关系,在流槽中设计了流体通过选择性高度阀门,保证了Al-Sn-Bi流体成分的准确性与一致性,从而最大限度保证了连铸棒坯成分均一性。
搜索关键词: 防浓差 反射炉 浇注 系统
【主权项】:
一种防浓差的反射炉浇注系统,包括熔池、浇注口、流槽和闸门;所述的熔池与流槽衔接,在熔池与流槽之间设有浇注口,闸门设在流槽的末端;其特征在于:所述的浇注口高度与熔池内液面平齐,浇注口高度h为400‑500mm,浇注口下端高出熔池底部10~15mm;浇注口上宽下窄,呈“V”形,浇注口顶部宽度为18‑20mm,浇注口底部宽度为1‑3mm,浇注口不同水平面半宽度与所在深度服从关系式:其中,d‑浇注口不同水平面处半宽度,h‑深度,g‑重力加速度,k≈0.68~0.84×10‑5m2/s。
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