[实用新型]一种碳化钽涂层的高温CVD制备装置

摘要

本实用新型涉及一种碳化钽涂层的高温CVD制备装置，该装置包括，石墨坩埚，石墨坩埚的顶端和底端开口，石墨坩埚内部放置石墨支架，石墨支架有定位的卡槽，石墨片放置在卡槽内固定，石墨坩埚的外侧包裹保温层，保温层置于与下法兰连接的石英支撑管上端，上法兰、下法兰和石英壁构成封闭空间，封闭空间外侧设置感应线圈，下法兰与抽真空装置相连接，上法兰与进气装置相连接，进气装置由钽气态化合物和氩气两路气体组成，气体流速由流量计控制。技术效果是保证石墨构件与钽气态化合物在2000℃以上的温度下充分反应，表层生成高致密光洁的碳化钽涂层，满足高致密度、符合化学计量比的碳化钽涂层生长的要求。

主权项

一种碳化钽涂层的高温CVD制备装置，包括上法兰（1）、感应线圈（2）、保温层（3）、石英壁（4）、下法兰（5）、石墨坩埚（6）、石墨构件（7）、石墨支架（8）、石英支撑管（9）、抽真空装置（10）、进气装置（11），其特征在于：石墨坩埚（6）的顶端和底端、保温层（3）顶端和底端、上法兰（1）都开有直径不同的中心通孔，下法兰（5）偏离中心处有一通孔，抽真空装置（10）与下法兰（5）的通孔相连接，石英支撑管（9）固定在下法兰（5）的上表面，石墨坩埚（6）的外侧包裹保温层（3），保温层（3）放置在石英支撑管（9）上固定，石墨坩埚（6）的底端放置石墨支架（8），石墨构件（7）放置在石墨支架（8）的卡槽内，石英壁（4）套装在保温层（3）外，进气装置（11）与上法兰（1）的中心通孔相连接，进气装置（11）内有两条进气管，一端分别与钽气态化合物与氩气的混合气体（a）和稀释氩气（b）两路气体联通，气体流速由流量计控制，另一端插入石墨坩埚（6）内，上法兰（1）、石英壁（4）、下法兰（5）固定在一起，构成封闭空间（12），感应线圈（2）设置在石英壁（4）外。