[实用新型]一种可支撑半导体等离子体反应腔体的机架装置有效

专利信息
申请号: 201520818106.2 申请日: 2015-10-21
公开(公告)号: CN205081100U 公开(公告)日: 2016-03-09
发明(设计)人: 续震;王晓晨 申请(专利权)人: 沈阳拓荆科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01J37/32
代理公司: 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 代理人: 甄玉荃;陈福昌
地址: 110179 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种可支撑半导体等离子体反应腔体的机架装置,主要解决现有反应腔体在支撑件上安装不稳定等问题,本实用新型提供一种可支撑半导体等离子体反应腔体的机架装置,所述机架装置安装于反应腔室的正下方,该机架装置包括机架本体,走线槽,加固条,载物平台,支撑座与滑轮。本实用新型整个机架内部整齐美观,方便检查和维修,并且保证了反应腔体的稳定。
搜索关键词: 一种 支撑 半导体 等离子体 反应 机架 装置
【主权项】:
一种可支撑半导体等离子体反应腔体的机架装置,所述机架装置安装于反应腔室的正下方,其特征在于,该机架装置包括机架本体,走线槽,加固条,载物平台,支撑座与滑轮;所述机架本体上设有走线槽,机架本体的两个侧面分别安装一根加固条,增加机架本体的称重能力和稳定性;所述载物平台固定在所述机架本体的下表面,机架本体的底部还设有滑轮与支撑座。
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