[实用新型]一种溶液法制备单晶培养装置有效
申请号: | 201520818651.1 | 申请日: | 2015-10-22 |
公开(公告)号: | CN205171010U | 公开(公告)日: | 2016-04-20 |
发明(设计)人: | 杨文龙;李海东;李东平;林家齐;张鹤 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨理工大学 |
主分类号: | C30B7/00 | 分类号: | C30B7/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 150080 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 一种溶液法制备单晶培养装置包括单晶培养箱壳体(1)、通气口(2)、热电偶(3)、进气口控制开关(4)、进气口(5)、隔热保温层(6)、智能温度控制仪表(7)、真空表(8)、电源开关(9)、环形电阻(10)、单晶培养装置内室(11)、出气口控制开关(12)、出气口(13)。由于现有的单晶生产设备未能解决单晶溶液所处的气氛和压强等问题,本实用新型为了解决制备单晶过程中遇到的溶液温度、装置内部压强和溶液所处的气氛等问题而设计。并且可以极大地提高了生产大尺寸的单晶效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 溶液 法制 备单晶 培养 装置 | ||
【主权项】:
一种溶液法制备单晶培养装置包括单晶培养装置壳体(1)、通气口(2)、热电偶(3)、进气口控制开关(4)、进气口(5)、隔热保温层(6)、智能温度控制仪表(7)、真空表(8)、电源开关(9)、环形电阻(10)、单晶培养装置内室(11)、出气口控制开关(12)、出气口(13);所述智能温度控制仪表(7)与热电偶(3)相连,可以控制单晶培养装置内室(11)的温度,温度的精度可以控制在0.05℃,温度控制范围25.00℃‑200.00℃,所述单晶培养箱内室(11)与进气口(5)、进气口控制开关(4)、出气口(13)、出气口控制开关(12)相连通,可以控制内室气氛与压力,所述真空表(8)与单晶培养箱内室(11)相连,可以监测其内部真空度,环形电阻(10)环绕单晶培养装置内室(11)壁,给单晶培养装置内室加热,电源开关(9)与环形电阻(10)和智能温度控制仪表(7)相连接,起到温度调控作用;单晶培养装置内室(11)的真空度由真空表(8)显示,真空表的示数范围0‑0.04Mpa。
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