[实用新型]一种等离子气流压缩聚焦喷嘴有效
| 申请号： | 201520819752.0 | 申请日： | 2015-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN205254323U | 公开（公告）日： | 2016-05-25 |
| 发明（设计）人： | 张伯勤 | 申请（专利权）人： | 张伯勤 |
| 主分类号： | B23K10/00 | 分类号： | B23K10/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213011 江苏省常州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种等离子气流压缩聚焦喷嘴，包括喷嘴本体，喷嘴本体上内部设有空腔的半封闭式结构，喷嘴本体头部设有喷嘴孔，喷嘴本体后部设有用于和等离子割枪连接的螺纹，喷嘴本体前端设有喷头，所述喷嘴孔设于喷嘴本体头部的中央位置，所述喷嘴本体由碲铜或铬锆铜材料制成，所述喷头为锥形体结构。所述喷头为锥形体结构及锥形体的气流聚集点在喷嘴孔前2-15mm之间。本实用新型经济效益明显，材料硬度和强度大，耐烧损，结构简单紧凑，工作稳定，切割质量提高，冷却效果更加显著，使用寿命增加，导电性能和导热性能均明显提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 气流 压缩 聚焦 喷嘴 | ||
【主权项】：
一种等离子气流压缩聚焦喷嘴，包括喷嘴本体，其特征在于，喷嘴本体上内部设有空腔的半封闭式结构，喷嘴本体头部设有喷嘴孔，喷嘴本体后部设有用于和等离子割枪连接的螺纹，喷嘴本体前端设有喷头；所述喷嘴孔设于喷嘴本体头部的中央位置；所述喷嘴本体由碲铜或铬锆铜材料制成；所述喷头为锥形体结构及锥形体的气流聚集点在喷嘴孔前2‑15mm之间。
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