[实用新型]厚度均匀的箔式应变计有效

专利信息
申请号: 201520840460.5 申请日: 2015-10-26
公开(公告)号: CN205209473U 公开(公告)日: 2016-05-04
发明(设计)人: 范红中 申请(专利权)人: 范红中
主分类号: G01B21/32 分类号: G01B21/32
代理公司: 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 11129 代理人: 陈双喜
地址: 523000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开一种厚度均匀的箔式应变计,包括薄膜基底、敏感栅和密封层,所述薄膜基底与敏感栅热压贴合,所述热压贴合为薄膜基底与敏感栅在一定温度条件下热压复合,或薄膜基底与敏感栅通过热熔胶在一定温度条件下热压粘合;所述密封层热压贴合于敏感栅的上表面。通过将薄膜基底与敏感栅采用热压结合的方式,免去涂胶的工序,避免胶沾过程中薄膜基底与敏感栅难以定位贴合的情况,提高了应变计的生产效率,更容易实现批量化生产;同时,不会出现因涂胶不均匀而导致的基底厚度一致性差的情况,厚度更加均匀,在使用中性能更加稳定,精度更高,也增加了薄膜基底与敏感栅之间的粘贴力强度,进而提升了应变计的剥离强、耐腐蚀性能和综合性能指标。
搜索关键词: 厚度 均匀 应变
【主权项】:
一种厚度均匀的箔式应变计,包括薄膜基底、敏感栅和密封层,其特征在于:所述薄膜基底与敏感栅热压贴合,所述热压贴合为薄膜基底与敏感栅在一定温度条件下热压复合,或薄膜基底与敏感栅通过热熔胶在一定温度条件下热压粘合;所述密封层热压贴合于敏感栅的上表面。
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