[实用新型]喷洒涂布光阻用的晶圆载座以及光阻喷洒涂布机有效
申请号: | 201520848851.1 | 申请日: | 2015-10-29 |
公开(公告)号: | CN205217206U | 公开(公告)日: | 2016-05-11 |
发明(设计)人: | 陈语同;苏冠群;许传进;陈键辉;叶晓岚;何彦仕 | 申请(专利权)人: | 精材科技股份有限公司 |
主分类号: | B05B13/02 | 分类号: | B05B13/02 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 中国台湾桃园市中*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型提供一种喷洒涂布光阻用的晶圆载座以及光阻喷洒涂布机,该喷洒涂布光阻用的晶圆载座包括:一晶圆承载平台,其具有相对的上表面及下表面、以及一环绕该上表面及该下表面的侧表面,其中该上表面用以承载一待喷洒涂布光阻的晶圆,该上表面的面积小于该下表面的面积,且该待喷洒涂布光阻的晶圆的面积大于该晶圆承载平台的该上表面的面积;一支撑座,抵接于该晶圆承载平台的该下表面,用以支撑该晶圆承载平台;多个吹气孔,分布于该晶圆承载平台的该侧表面;多个吹气通道,位于该晶圆承载平台内,且每一吹气通道对应连接一所述吹气孔;以及一气体供应管路,设置于该支撑座内,且连接一气体供应源以及所述吹气通道。 | ||
搜索关键词: | 喷洒 涂布光阻用 晶圆载座 以及 涂布机 | ||
【主权项】:
一种喷洒涂布光阻用的晶圆载座,其特征在于,包括:一晶圆承载平台,其具有相对的上表面及下表面、以及一环绕该上表面及该下表面的侧表面,其中该上表面用以承载一待喷洒涂布光阻的晶圆,该上表面的面积小于该下表面的面积,且该待喷洒涂布光阻的晶圆的面积大于该晶圆承载平台的该上表面的面积;一支撑座,抵接于该晶圆承载平台的该下表面,用以支撑该晶圆承载平台;多个吹气孔,分布于该晶圆承载平台的该侧表面;多个吹气通道,位于该晶圆承载平台内,且每一吹气通道对应连接所述吹气孔之一;以及一气体供应管路,设置于该支撑座内,且连接一气体供应源以及所述吹气通道。
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