[实用新型]用于化学气相沉积系统的样品制备高效生长载台有效
| 申请号： | 201520849542.6 | 申请日： | 2015-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN205067186U | 公开（公告）日： | 2016-03-02 |
| 发明（设计）人： | 李克训;王东红;赵亚丽;李哲;王蓬 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第三十三研究所 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 030006 山西*** | 国省代码： | 山西;14 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本实用新型涉及用于化学气相沉积系统的样品制备高效生长载台，属于纳米材料制备技术领域，具体涉及到通过高效生长载台来提高具有管式反应腔体的化学气相沉积系统制备样品的效率；本实用新型通过在恒温生长区域增设高效生长载台的方式来提高CVD系统中恒温生长空间的有效利用率，来快速高效制备样品，以最大程度的实现降本减耗；包括CVD系统管式恒温反应腔、生长样品和生长载台，所述生长样品置于生长载台上，所述生长样品和生长载台均置于CVD系统管式恒温反应腔内，所述CVD系统管式恒温反应腔为一个，所述CVD系统管式恒温反应腔内有z层生长载台，一层生长载台上有x*y个生长样品；本实用新型主要应用在化学气相沉积系统方面。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 沉积 系统 样品 制备 高效 生长 | ||
【主权项】：
用于化学气相沉积系统的样品制备高效生长载台，其特征在于：包括CVD系统管式恒温反应腔（1）、生长样品和生长载台（2），所述生长样品置于生长载台（2）上，所述生长样品和生长载台（2）均置于CVD系统管式恒温反应腔（1）内，所述CVD系统管式恒温反应腔（1）为一个，所述生长样品为固态，所述CVD系统管式恒温反应腔（1）的内径为a米、长度为b米，所述生长样品的长为c米、宽为d米，所述c米与x的乘积小于a米，所述x为正整数，所述d米与y的乘积不大于b米，所述y为正整数，则一层生长载台（2）上有x*y个生长样品，所述CVD系统管式恒温反应腔（1）内有z层生长载台（2），所述生长载台（2）与生长样品的厚度之和为h米，则z不大于![]()
，所述z为正整数。
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