[实用新型]一种沉锗投料装置有效
申请号: | 201520856598.4 | 申请日: | 2015-10-30 |
公开(公告)号: | CN205115567U | 公开(公告)日: | 2016-03-30 |
发明(设计)人: | 周建泉;包世兴;罗应平;鲁宗乾;张武昌;罗吉海;王美春;张丽华;毕春丽 | 申请(专利权)人: | 南华茂森再生科技有限公司 |
主分类号: | C22B41/00 | 分类号: | C22B41/00;C22B3/46 |
代理公司: | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人: | 曾少丽 |
地址: | 675200 云南省*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本实用新型一种沉锗投料装置,包括沉锗反应釜和投料装置,投料装置为圆管,分为投料口和接触部,投料口置于沉锗反应釜外顶部,接触部竖直置于沉锗反应釜内,接触部上设有至少一列沿着接触部竖直方向均匀延生的投料圆孔,投料圆孔的直径为10-20mm。在沉锗过程中加入液体辅料,辅料进入投料装置的接触部,接触部上的投料圆孔开孔方向与溶液转动方向呈90°角,依靠溶液的转动流动,与辅料混合反应。该装置能够增加溶液与辅料轴向的接触反应面积,加快反应时间,节约辅料,投入最少的辅料达到最好的沉锗效果,节约了成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 投料 装置 | ||
【主权项】:
一种沉锗投料装置,其特征在于:包括沉锗反应釜(1)和投料装置,所述投料装置为圆管,投料装置分为投料口(2)和接触部(3),所述投料口(2)设置于沉锗反应釜(1)外顶部,所述接触部(3)竖直设置于沉锗反应釜(1)内,所述接触部(3)上设有至少一列沿着接触部(3)竖直方向均匀延伸的投料圆孔(4),所述投料圆孔(4)的直径为10‑20mm。
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