[实用新型]具有二维金属电极的有电导调制的四极功率半导体器件有效

专利信息
申请号: 201520857858.X 申请日: 2015-11-02
公开(公告)号: CN205194704U 公开(公告)日: 2016-04-27
发明(设计)人: 左义忠;孙俊波;于博伟;迟永欣 申请(专利权)人: 吉林华微电子股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78
代理公司: 长春菁华专利商标代理事务所 22210 代理人: 陶尊新
地址: 132013*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 具有二维金属电极的有电导调制的四极功率半导体器件,属半导体分离功率器件领域,针对IGBT设计和制造难度大的问题,VDMOSFET器件芯片由多个VDMOSFET原胞并联且依次相接而成,多个二极管设置在多个原胞之间,任意两个原胞之间插入一个二极管,二极管与VDMOSFET共用耐压漂移区,二极管的阴极通过上部绝缘层与VDMOSFET的源极金属隔离,且在源极金属之上并联形成第二层金属电极;二极管的阳极与VDMOSFET的漏极共用;二极管的阴极与源极金属成二维结构,二个金属电极之间通过上部绝缘层隔离,VDMOSFET的栅极多晶与源极金属通过下部绝缘层隔离引出金属栅极,进而形成四电极的场控功率器件。
搜索关键词: 具有 二维 金属电极 电导 调制 功率 半导体器件
【主权项】:
具有二维金属电极的有电导调制的四极功率半导体器件,该器件是由VDMOSFET器件与二极管复合的场控器件,在VDMOSFET器件中,器件芯片由多个VDMOSFET原胞并联且依次相接而成,多个二极管设置在多个原胞之间,任意两个原胞之间插入一个二极管,二极管与VDMOSFET器件共用耐压漂移区,其特征是,二极管的阴极通过上部绝缘层与VDMOSFET的源极金属隔离,且在VDMOSFET的源极金属之上并联形成第二层金属电极;二极管的阳极与VDMOSFET器件的漏极共用;二极管的阴极与VDMOSFET器件的源极金属成二维结构,二个金属电极之间通过上部绝缘层隔离,VDMOSFET器件的栅极多晶与源极金属通过下部绝缘层隔离引出金属栅极,进而形成四电极的场控功率器件。
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