[实用新型]一种用于工业电镀废水破络后残余硫离子监测系统有效
| 申请号： | 201520903332.0 | 申请日： | 2015-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN205419976U | 公开（公告）日： | 2016-08-03 |
| 发明（设计）人： | 刘彤宙;王宏杰;邵宇航 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学深圳研究生院 |
| 主分类号： | C02F9/04 | 分类号： | C02F9/04;G01N27/00 |
| 代理公司： | 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 | 代理人： | 胡玉 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及电镀废水水处理技术领域，尤其涉及一种用于工业电镀废水破络后残余硫离子监测系统。本实用新型包括通过管道连接的第一pH调节池、混合破络池、混凝沉淀池、第二pH调节池，混合破络池内设置有自动控制装置，自动控制装置包括依次连接的硫化钠药剂槽、加药泵、第一电动阀、第一自动控制器、第一银硫离子电极，第一银硫离子电极插入混合破络池里。本实用新型检测速度快，易于运行维护，响应时间短；抗干扰能力强，不受其它具有氧化还原性物质干扰，选择性较强；能够实现在保证铜被完全去除的基础上，对破络后出水的残余硫离子进行实时监测，以减少药用成本以及保证后续生物单元正常运行。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 工业 电镀 废水 破络后 残余 离子 监测 系统 | ||
【主权项】：
一种用于工业电镀废水破络后残余硫离子监测系统，其特征在于：包括第一pH调节池、混合破络池、混凝沉淀池、第二pH调节池，其中，第一pH调节池出水口通过管道连接所述混合破络池进水口，所述混合破络池出水口通过管道连接所述混凝沉淀池进水口，所述混凝沉淀池出水口通过管道连接所述第二pH调节池进水口，所述混合破络池内设置有自动控制装置，所述自动控制装置包括硫化钠药剂槽、加药泵、第一银硫离子电极、第一自动用于原位底泥修复药剂投加的装置控制器、第一电动阀，所述第一银硫离子电极插入所述混合破络池里，所述第一银硫离子电极连接第一自动控制器，所述第一自动控制器连接所述加药泵，所述加药泵连接所述硫化钠药剂槽。
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