[实用新型]一种用于MOCVD反应腔室的盘体温度控制装置

摘要

本实用新型公开了一种用于MOCVD反应腔室的盘体温度控制装置，包括：循环水管，螺旋盘绕在MOCVD反应腔室的底盘上；循环泵，设置在MOCVD反应腔室外，与循环水管连接，使水在循环水管的管路中不断循环，从而形成循环水回路；调节阀，装于循环水管上，用于控制冷却水进入循环水管的进水量；热电偶，装于MOCVD反应腔室的底盘上，用于温度检测；温度控制器，用于接收热电偶的检测信号，而后输出控制信号给调节阀，调节阀接收控制信号并实时调整阀门开度，从而控制冷却水进水量。本实用新型通过对底盘温度的精确控制，减少了工艺气体从上向下流动的过程中P(磷)等颗粒在底盘的沉积，从而降低反应腔室的清理频率，延长了机台的连续工作时间，提高生产效率。

主权项

一种用于MOCVD反应腔室的盘体温度控制装置，其特征在于，包括：循环水管，螺旋盘绕在MOCVD反应腔室的底盘上；循环泵，设置在MOCVD反应腔室外，与所述循环水管连接，使水在循环水管的管路中不断循环，从而形成循环水回路；调节阀，装于所述循环水管上，用于控制冷却水进入循环水管的进水量；热电偶，装于MOCVD反应腔室的底盘上，用于温度检测；温度控制器，用于接收所述热电偶的检测信号，而后输出控制信号给所述调节阀，所述调节阀接收控制信号并实时调整阀门开度，从而控制冷却水进水量。