[实用新型]一种菲林套件有效
申请号: | 201520966165.4 | 申请日: | 2015-11-26 |
公开(公告)号: | CN205139564U | 公开(公告)日: | 2016-04-06 |
发明(设计)人: | 李宁;方传俅;彭移生;李汉涛 | 申请(专利权)人: | 龙宇电子(梅州)有限公司 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42 |
代理公司: | 广州市越秀区海心联合专利代理事务所(普通合伙) 44295 | 代理人: | 罗振国 |
地址: | 514768 广东省梅州市东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种菲林套件;属于对位装置技术领域;其技术要点包括相互配合的上菲林和下菲林,在上菲林边缘沿周向分布有若干个第一圆形空白区,在第一圆形空白区内相对设有两个第一扇形填充区,两个第一扇形填充区之间配合形成两个第一扇形空白区;在上菲林沿周向分布有若干个第一方形空白区,在第一方形空白区内的四个角对应设有四个方形填充区,四个方形填充区之间配合形成十字空白区;在下菲林沿周向分布有与第一方形空白区一一对应的第二方形空白区,在第二方形空白区内设有与十字空白区相适应的十字填充区;本实用新型旨在提供一种使用方便、效果良好的菲林套件;用于菲林的对位。 | ||
搜索关键词: | 一种 套件 | ||
【主权项】:
一种菲林套件,包括相互配合的上菲林(1)和下菲林(2),在上菲林(1)边缘沿周向分布有若干个第一圆形空白区(3),在第一圆形空白区(3)内相对设有两个第一扇形填充区(3a),两个第一扇形填充区(3a)之间配合形成两个第一扇形空白区(3b);第一扇形填充区(3a)和第一扇形空白区(3b)配合形成圆形,该圆形的直径小于第一圆形空白区(3)的直径;在下菲林(2)边缘沿周向分布有与第一圆形空白区(3)一一对应的第二圆形空白区(4),在第二圆形空白区(4)内相对设有两个与第一扇形空白区(3b)相适应的第二扇形填充区(4a),两个第二扇形填充区(4a)之间配合形成两个与第一扇形填充区(3a)相适应的第二扇形空白区(4b);第二扇形填充区(4a)和第二扇形空白区(4b)配合形成圆形,该圆形的直径小于第二圆形空白区(4)的直径,其特征在于,所述上菲林(1)沿周向分布有若干个第一方形空白区(5),在第一方形空白区(5)内的四个角对应设有四个方形填充区(5a),四个方形填充区(5a)之间配合形成十字空白区(5b);在下菲林(2)沿周向分布有与第一方形空白区(5)一一对应的第二方形空白区(6),在第二方形空白区(6)内设有与十字空白区(5b)相适应的十字填充区(6a)。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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