[实用新型]一种微型硅光电二极管有效

专利信息
申请号: 201520974428.6 申请日: 2015-12-01
公开(公告)号: CN205376553U 公开(公告)日: 2016-07-06
发明(设计)人: 崔峰敏 申请(专利权)人: 傲迪特半导体(南京)有限公司
主分类号: H01L31/103 分类号: H01L31/103;H01L31/0352
代理公司: 江苏致邦律师事务所 32230 代理人: 樊文红
地址: 210034 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种微型硅光电二极管,硅晶片尺寸为0.5mm×0.3mm,有源区面积0.43mm×0.23mm,厚度为280±10μm,低掺杂的N型高阻硅衬底上设有高掺杂P型硅层,形成PN结,低掺杂的N型高阻硅衬底外环为高掺杂N型硅环,所述N型高阻硅衬底、高掺杂P型硅层和高掺杂N型硅环上有氮化硅钝化薄膜,所述高掺杂P型硅层和高掺杂N型硅环间的低掺杂N型高阻硅衬底向外凸起形成低掺杂外延硅层,所述氮化硅钝化薄膜上有圆角正方形状接触孔,所述接触孔内沉积金属Al作为阳极,N型高阻硅衬底的背面沉积金属Au作为阴极。本实用新型尺寸小,灵敏度高,可应用于光通信、激光二极管功率控制等领域。
搜索关键词: 一种 微型 光电二极管
【主权项】:
一种微型硅光电二极管,低掺杂的N型高阻硅衬底上设有高掺杂P型硅层,形成PN结,低掺杂的N型高阻硅衬底外环为高掺杂N型硅环,其特征在于,所述N型高阻硅衬底、高掺杂P型硅层和高掺杂N型硅层上有氮化硅钝化薄膜,所述高掺杂P型硅层和高掺杂N型硅环间的低掺杂N型高阻硅衬底向外凸起形成低掺杂外延硅层,所述氮化硅钝化薄膜上有圆角正方形状接触孔,接触孔内沉积金属Al作为阳极,N型高阻硅衬底的背面沉积金属Au作为阴极;所述二极管硅晶片尺寸为0.5mm×0.3mm,有源区面积0.43mm×0.23mm,厚度为280±10μm。
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