[实用新型]一种微型硅光电二极管有效
申请号: | 201520974428.6 | 申请日: | 2015-12-01 |
公开(公告)号: | CN205376553U | 公开(公告)日: | 2016-07-06 |
发明(设计)人: | 崔峰敏 | 申请(专利权)人: | 傲迪特半导体(南京)有限公司 |
主分类号: | H01L31/103 | 分类号: | H01L31/103;H01L31/0352 |
代理公司: | 江苏致邦律师事务所 32230 | 代理人: | 樊文红 |
地址: | 210034 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种微型硅光电二极管,硅晶片尺寸为0.5mm×0.3mm,有源区面积0.43mm×0.23mm,厚度为280±10μm,低掺杂的N型高阻硅衬底上设有高掺杂P型硅层,形成PN结,低掺杂的N型高阻硅衬底外环为高掺杂N型硅环,所述N型高阻硅衬底、高掺杂P型硅层和高掺杂N型硅环上有氮化硅钝化薄膜,所述高掺杂P型硅层和高掺杂N型硅环间的低掺杂N型高阻硅衬底向外凸起形成低掺杂外延硅层,所述氮化硅钝化薄膜上有圆角正方形状接触孔,所述接触孔内沉积金属Al作为阳极,N型高阻硅衬底的背面沉积金属Au作为阴极。本实用新型尺寸小,灵敏度高,可应用于光通信、激光二极管功率控制等领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 微型 光电二极管 | ||
【主权项】:
一种微型硅光电二极管,低掺杂的N型高阻硅衬底上设有高掺杂P型硅层,形成PN结,低掺杂的N型高阻硅衬底外环为高掺杂N型硅环,其特征在于,所述N型高阻硅衬底、高掺杂P型硅层和高掺杂N型硅层上有氮化硅钝化薄膜,所述高掺杂P型硅层和高掺杂N型硅环间的低掺杂N型高阻硅衬底向外凸起形成低掺杂外延硅层,所述氮化硅钝化薄膜上有圆角正方形状接触孔,接触孔内沉积金属Al作为阳极,N型高阻硅衬底的背面沉积金属Au作为阴极;所述二极管硅晶片尺寸为0.5mm×0.3mm,有源区面积0.43mm×0.23mm,厚度为280±10μm。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的