[实用新型]石英埚盖有效

专利信息
申请号: 201521016983.4 申请日: 2015-12-09
公开(公告)号: CN205258653U 公开(公告)日: 2016-05-25
发明(设计)人: 宋都明;孙毅;王林;张颂越 申请(专利权)人: 天津市环欧半导体材料技术有限公司
主分类号: C30B15/10 分类号: C30B15/10;C30B29/06
代理公司: 天津中环专利商标代理有限公司 12105 代理人: 王凤英
地址: 300384 天津市西青*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 实用新型公开了一种用于直拉单晶硅的石英埚的石英埚盖。石英埚盖上设有用于单晶硅生长的中心孔,石英埚盖的下沿内表面与石英埚上端外表面紧密配合。通过对石英埚头部增加石英埚盖,可以有效的减少AR(氩气)进入石英埚内的含量,从而减少液面SiO的挥发速度,增加单晶硅的氧含量。常规采用没有石英埚盖制备单晶硅的氧含量为9-11E16atm/cm3,而增加本石英埚盖后,制备单晶硅的氧含量为15-17E16 atm/cm3
搜索关键词: 石英
【主权项】:
一种石英埚盖,其特征在于:所述的石英埚盖(1)上设有用于单晶硅生长的中心孔(1‑1),石英埚盖(1)的下沿(1‑2)内表面与石英埚(2)上端外表面紧密配合。
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