[实用新型]一种晶片荧光处理装置

摘要

本实用新型涉及一种晶片荧光处理装置，包括底板，底板上设有浸渍池，底板上设有过滤罐，过滤罐设置在浸渍池的外侧壁；过滤罐的端部设有端盖；过滤罐的内部设有过滤网，浸渍池内设有浸渍杆，浸渍杆的下端设有浸渍板，浸渍板的下部设有若干浸渍片，浸渍片的侧壁设有若干吸附片。本实用新型可以将荧光液通过输液罐输送到过滤罐内，通过过滤网方便对荧光液进行过滤处理；可以使晶片浸入荧光液内，从而方便对晶片进行荧光液浸渍处理，大大提高了晶片处理的效率。

主权项

一种晶片荧光处理装置，包括底板（11），其特征在于：底板（11）上设有浸渍池（12），底板（11）上设有过滤罐（13），过滤罐（13）设置在浸渍池（12）的外侧壁；过滤罐（13）的端部设有端盖（14）；过滤罐（13）的内部设有第一过滤网（16）与第二过滤网（17），第一过滤网（16）与第二过滤网（17）的形状大小相同，第一过滤网（16）与第二过滤网（17）呈水平布置，第一过滤网（16）与第二过滤网（17）为网状结构；过滤罐（13）的端部外侧壁设有输液罐（18），输液罐（18）与过滤罐（13）之间设有输液泵（19）；过滤罐（13）的内部设有输液管（21），输液管（21）的一端设有第一输液泵（22），第一输液泵（22）设置在过滤罐（13）的内底部，输液管（21）的另一端设有第二输液泵（23），第二输液泵（23）设置在浸渍池（12）的内侧壁；浸渍池（12）内设有浸渍杆（25），浸渍杆（25）的下端设有浸渍板（26），浸渍板（26）呈水平布置，浸渍板（26）的下部设有若干浸渍片（27），浸渍片（27）呈竖直布置，浸渍片（27）的侧壁设有若干吸附片（28），吸附片（28）通过磁力吸附在浸渍片（27）上；浸渍池（12）的上方设有悬挂环（29），悬挂环（29）为环形形状，悬挂环（29）的一侧设有第一对接杆（30），第一对接杆（30）为弧形形状，第一对接杆（30）设置在浸渍池（12）的端部，悬挂环（29）的另一侧设有第二对接杆（31），第二对接杆（31）为弧形形状，第二对接杆（31）设置在浸渍池（12）的端部。