[实用新型]一种电荷自恢复的复合驻极体薄膜有效
申请号: | 201521026805.X | 申请日: | 2015-12-10 |
公开(公告)号: | CN205542420U | 公开(公告)日: | 2016-08-31 |
发明(设计)人: | 周军;钟俊文;钟其泽 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01G7/02 | 分类号: | H01G7/02 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 廖盈春 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种电荷自恢复的复合驻极体薄膜,复合驻极体薄膜保持电荷,当复合驻极体薄膜所保持的电荷在受到外界干扰时,其保持的电荷会消失,当外界干扰消失后,复合驻极体薄膜又能吸附外界的电荷;复合驻极体薄膜包括:位于上层的第一薄膜和位于下层的第二薄膜,第一薄膜与所述第二薄膜之间有孔洞结构;第一薄膜是指在电晕极化后保持负电荷的高分子薄膜,第二薄膜是指在电晕极化后保持正电荷的高分子薄膜。本实用新型提供的复合驻极体薄膜具有便于操控、成本低廉和适于大批量规模生产等特点,且机械性能好,不容易脱落或者开裂。 | ||
搜索关键词: | 一种 电荷 恢复 复合 驻极体 薄膜 | ||
【主权项】:
一种电荷自恢复的复合驻极体薄膜,其特征在于,所述复合驻极体薄膜保持电荷,当所述复合驻极体薄膜所保持的电荷在受到外界干扰时,其保持的电荷会消失,当外界干扰消失后,所述复合驻极体薄膜又能吸附外界的电荷;所述复合驻极体薄膜包括:位于上层的第一薄膜(1)和位于下层的第二薄膜(2),所述第一薄膜(1)与所述第二薄膜(2)之间有孔洞结构;利用热压技术在所述第一薄膜(1)或所述第二薄膜(2)上压印出规则的凹陷图案;所述第一薄膜(1)是指在电晕极化后保持负电荷的高分子薄膜,所述第二薄膜(2)是指在电晕极化后保持正电荷的高分子薄膜。
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