[实用新型]清洁结构和离子注入设备有效

专利信息
申请号: 201521027722.2 申请日: 2015-12-11
公开(公告)号: CN205211699U 公开(公告)日: 2016-05-04
发明(设计)人: 胡贤夫;陈策;孙健;孙静;蔡灿 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;C23C14/48
代理公司: 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人: 许志勇
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型实施例公开一种清洁结构和采用该清洁结构的离子注入设备,通过清洁接口与气体通道的气体入口连通,再通过清洁气源构件对清洁接口输出气流,使得气流通过清洁接口和气体入口进入气体通道内,将堵塞气体通道内的污染物带出,实现快速清洁气体通道。
搜索关键词: 清洁 结构 离子 注入 设备
【主权项】:
一种清洁结构,用于清洁离子注入设备,所述离子注入设备包括用于传输工艺气体的通气结构,所述通气结构包括若干气体通道,每个气体通道均包括气体入口和气体出口,其特征在于,所述清洁结构包括:若干清洁接口,每个所述清洁接口均包括用于与所述气体入口连通的配接结构;清洁气源构件,连接所述清洁接口,用于对所述清洁接口输出气流。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山国显光电有限公司,未经昆山国显光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201521027722.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top