[实用新型]一种设有匀气板装置的管式低频PECVD装置

摘要

本实用新型提供了一种设有匀气板装置的管式低频PECVD装置，包括炉管、进气口、匀气板、炉门、控制匀气板与炉门同时开启和关闭的中控单元，所述的匀气板上设有匀气孔，所述中控单元与匀气板和炉门分别连接，所述匀气板设置在炉管的进气端。通过在炉管的进气端设置匀气板，使得进入炉管的反应气体在到达反应区域之前被匀气板打散并混合均匀，从而改善了等离子体分布，可有效提高镀膜均匀性，同时装置简单，改造成本不高。

主权项

一种设有匀气板装置的管式低频PECVD装置，其特征在于，包括炉管(1)、进气口(2)、匀气板(3)、炉门(4)、控制匀气板与炉门同时开启和关闭的中控单元(5)，所述的匀气板(3)上设有匀气孔，所述中控单元(5)与匀气板(3)和炉门(4)分别连接，所述匀气板(3)设置在炉管(1)的进气端。