[实用新型]一种RF射频功率源有效

专利信息
申请号: 201521034476.3 申请日: 2015-12-15
公开(公告)号: CN205196065U 公开(公告)日: 2016-04-27
发明(设计)人: 李璐 申请(专利权)人: 沈阳科诚真空技术有限公司
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 110000 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型涉及一种RF射频功率源,广泛地应用于科研、半导体工艺、真空镀膜、工业材料加工设备。本实用新型包括:机体、单片机、匹配器与射频源,所述机体侧面设有液晶显示屏,所述液晶显示屏旁设有参数设定按钮,所述单片机通过匹配器与射频源连接设于机体内部,所述射频源包括:有源石英晶体稳频、它激机与金属陶瓷四极管,所述金属陶瓷四极管为末级,所述有源石英晶体稳频、它激机均由单片机控制。本实用新型提出一种RF射频功率源,效率高,工作稳定可靠,匹配器与射频源功效溶为一体,提高了效率,缩小了体积,增加了美感。采用液晶显示屏与单片机应用控制,使本机提高了档次,是目前国内电子管射频源最先进的机型。
搜索关键词: 一种 rf 射频 功率
【主权项】:
一种RF射频功率源,其特征在于:包括:机体、单片机、匹配器与射频源,所述机体侧面设有液晶显示屏,所述液晶显示屏旁设有参数设定按钮,所述单片机通过匹配器与射频源连接设于机体内部,所述射频源包括:有源石英晶体稳频、它激机与金属陶瓷四极管,所述金属陶瓷四极管为末级,所述有源石英晶体稳频、它激机均由单片机控制。
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