[实用新型]一种高耐湿性肖特基势垒二极管芯片有效

专利信息
申请号: 201521055069.0 申请日: 2015-12-17
公开(公告)号: CN205231040U 公开(公告)日: 2016-05-11
发明(设计)人: 姚伟明;杨勇;马文力;付国振;谭德喜 申请(专利权)人: 扬州国宇电子有限公司
主分类号: H01L23/29 分类号: H01L23/29;H01L23/31;H01L29/872
代理公司: 苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司 32261 代理人: 胡思棉
地址: 225101 江苏省扬*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种高耐湿性肖特基势垒二极管芯片,其包括N型重掺杂硅衬底、N型轻掺杂外延层、P型重掺杂环区、场氧化层、薄氧化层、肖特基势垒层,位于场氧化层、薄氧化层、肖特基势垒层上方的多层金属层,及位于N型重掺杂硅衬底下面的多层金属层,在所述场氧化层上面、薄氧化层的上面及其内侧设置有对高密度介质层,位于薄氧化层内侧的高密度介质层覆盖部分P型重掺杂环区。通过增加高密度介质层,在器件结构内部提高器件钝化效果,对二极管终端结构中的Si-SiO2界面进行保护,防止水汽进入Si-SiO2界面和电极金属-肖特基势垒硅化物界面,提高抵抗潮湿环境下的可靠性。
搜索关键词: 一种 高耐湿性 肖特基势垒二极管 芯片
【主权项】:
一种高耐湿性肖特基势垒二极管芯片,其包括N型重掺杂硅衬底、在所述N型重掺杂硅衬底上生长的N型轻掺杂外延层、在所述N型轻掺杂外延层中设置有P型重掺杂环区、位于所述P型重掺杂环区上方的薄氧化层、位于所述薄氧化层外侧的场氧化层、位于所述薄氧化层内侧的肖特基势垒层,位于所述场氧化层、所述薄氧化层、所述肖特基势垒层上方的正面多层金属层,及位于所述N型重掺杂硅衬底下面的背面多层金属层,其特征在于在所述场氧化层上方、所述薄氧化层的上方及其内侧设置有对高密度介质层,位于所述薄氧化层内侧的所述高密度介质层覆盖部分所述P型重掺杂环区;所述高密度介质层位于所述正面多层金属层下方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于扬州国宇电子有限公司,未经扬州国宇电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201521055069.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top