[实用新型]一种高耐湿性肖特基势垒二极管芯片有效
申请号: | 201521055069.0 | 申请日: | 2015-12-17 |
公开(公告)号: | CN205231040U | 公开(公告)日: | 2016-05-11 |
发明(设计)人: | 姚伟明;杨勇;马文力;付国振;谭德喜 | 申请(专利权)人: | 扬州国宇电子有限公司 |
主分类号: | H01L23/29 | 分类号: | H01L23/29;H01L23/31;H01L29/872 |
代理公司: | 苏州润桐嘉业知识产权代理有限公司 32261 | 代理人: | 胡思棉 |
地址: | 225101 江苏省扬*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种高耐湿性肖特基势垒二极管芯片,其包括N型重掺杂硅衬底、N型轻掺杂外延层、P型重掺杂环区、场氧化层、薄氧化层、肖特基势垒层,位于场氧化层、薄氧化层、肖特基势垒层上方的多层金属层,及位于N型重掺杂硅衬底下面的多层金属层,在所述场氧化层上面、薄氧化层的上面及其内侧设置有对高密度介质层,位于薄氧化层内侧的高密度介质层覆盖部分P型重掺杂环区。通过增加高密度介质层,在器件结构内部提高器件钝化效果,对二极管终端结构中的Si-SiO2界面进行保护,防止水汽进入Si-SiO2界面和电极金属-肖特基势垒硅化物界面,提高抵抗潮湿环境下的可靠性。 | ||
搜索关键词: | 一种 高耐湿性 肖特基势垒二极管 芯片 | ||
【主权项】:
一种高耐湿性肖特基势垒二极管芯片,其包括N型重掺杂硅衬底、在所述N型重掺杂硅衬底上生长的N型轻掺杂外延层、在所述N型轻掺杂外延层中设置有P型重掺杂环区、位于所述P型重掺杂环区上方的薄氧化层、位于所述薄氧化层外侧的场氧化层、位于所述薄氧化层内侧的肖特基势垒层,位于所述场氧化层、所述薄氧化层、所述肖特基势垒层上方的正面多层金属层,及位于所述N型重掺杂硅衬底下面的背面多层金属层,其特征在于在所述场氧化层上方、所述薄氧化层的上方及其内侧设置有对高密度介质层,位于所述薄氧化层内侧的所述高密度介质层覆盖部分所述P型重掺杂环区;所述高密度介质层位于所述正面多层金属层下方。
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