[实用新型]一种用于原子层薄膜沉积的反应源进气装置

摘要

本实用新型涉及原子层薄膜沉积技术领域，具体涉及了一种用于原子层薄膜沉积的反应源进气装置，包括第一反应源进气管、第二反应源进气管和反应源分散块，反应源分散块底部连通有多个竖直设置的第一反应源弥散管和第二反应源弥散管，第一反应源弥散管和第二反应源弥散管交替设置成一排；第一反应源进气管通过反应源分散块分别与第一反应源弥散管连通，第二反应源进气管通过反应源分散块分别与第二反应源弥散管连通；第一反应源弥散管和第二反应源弥散管分别伸入反应腔室内，且对反应腔室内的硅片均匀喷洒第一反应源和第二反应源。本实用新型提供的一种用于原子层薄膜沉积的反应源进气装置，可有效提高反应腔室内硅片表面气态反应源的分布均匀性。

主权项

一种用于原子层薄膜沉积的反应源进气装置，其特征在于，包括第一反应源进气管、第二反应源进气管和反应源分散块，所述反应源分散块底部连通有多个竖直设置的第一反应源弥散管和第二反应源弥散管，所述第一反应源弥散管和第二反应源弥散管交替设置成一排；所述第一反应源进气管通过所述反应源分散块分别与所述第一反应源弥散管连通，所述第二反应源进气管通过所述反应源分散块分别与所述第二反应源弥散管连通；所述第一反应源弥散管和第二反应源弥散管分别伸入反应腔室内，且对所述反应腔室内的硅片均匀喷洒第一反应源和第二反应源。