[实用新型]一种湿法处理设备

摘要

本实用新型提供了一种湿法处理设备，包括基座和转动设置在所述基座上的转动臂，还包括设置在所述基座上，且设置位置与所述转动臂对正，以用于吸附所述转动臂的磁铁。工作时，在基板与承载端开始接触直至最终脱离的过程中，无论检测端位于其原始位置(与基座接触的位置)，还是在升起的过程中，磁铁都会对检测端起到吸附作用，当基板与承载端脱离接触后，升起的检测端会在磁力及自身重力的作用下回落至原始位置，从而避免转动臂的检测端不回落的现象发生，进而使传感器能够精确感测到基板的位置，以保证有机发光显示器的正常生产。

主权项

一种湿法处理设备，包括基座和转动设置在所述基座上的转动臂，其特征在于，还包括设置在所述基座上，且位置与所述转动臂对正，以用于吸附所述转动臂的磁铁。