[实用新型]具彩色光阻图案的曲面装置有效
申请号: | 201521083640.X | 申请日: | 2015-12-23 |
公开(公告)号: | CN205318085U | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 许铭案;林文福 | 申请(专利权)人: | 许铭案;林文福 |
主分类号: | G03F1/60 | 分类号: | G03F1/60;G03F1/76;G03F7/00;G03F7/20;G09F9/30 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人: | 马廷昭 |
地址: | 中国台湾苗栗*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种具彩色光阻图案的曲面装置,曲面装置包含:一曲面基材、至少两层彩色光阻层。其中,至少两层彩色光阻层形成于曲面基材上,此至少两层彩色光阻层共同构成一图案,且图案可视。本实用新型提供的一种具彩色光阻图案的曲面装置,可解决传统技术的加工速度慢、材料成本高、无法兼具线路分辨率高的状况,达到加工成本低、加速速度快、材料成本低、线路分辨率高等综合技术功效。 | ||
搜索关键词: | 彩色 图案 曲面 装置 | ||
【主权项】:
一种具彩色光阻图案的曲面装置,其特征在于,其包含:一曲面基材;及至少两层彩色光阻层,形成于该曲面基材上;其中,该至少两层彩色光阻层共同构成一图案,该图案可视。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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