[实用新型]一种高真空三室三掩模库薄膜沉积装置的掩模库组件

摘要

本实用新型公开了一种高真空三室三掩模库薄膜沉积装置的掩模库组件，包括安装座，所述安装座上设有固定架，所述固定架上设有定位管，所述固定架的两侧设有液压升降装置，所述液压升降装置的上方设有移动座，所述移动座与液压升降装置的液压杆连接，所述移动座上设有放置架，所述放置架的上方设有转动电机，所述转动电机的传动轴连接转动杆，所述转动杆贯穿移动座设置在定位管内，且所述转动杆的一端穿过安装座与掩模库连接，所述掩模库内设有基片架。本实用新型可实现掩模库和基片架的上下移动和旋转，实现蒸发距离的调整及基片的交接取放，结构简单，使用方便，基片制备效率高。

主权项

一种高真空三室三掩模库薄膜沉积装置的掩模库组件，包括安装座（1），其特征在于，所述安装座（1）上设有固定架（4），所述固定架（4）上设有定位管（2），所述固定架（4）的两侧设有液压升降装置（5），所述液压升降装置（5）的上方设有移动座（6），所述移动座（6）与液压升降装置（5）的液压杆连接，所述移动座（6）上设有放置架（7），所述放置架（7）的上方设有转动电机（8），所述转动电机（8）的传动轴连接转动杆（9），所述转动杆（9）贯穿移动座（6）设置在定位管（2）内，且所述转动杆（9）的一端穿过安装座（1）与掩模库（10）连接，所述掩模库（10）内设有基片架（11）。