[实用新型]刚性基板有效
申请号: | 201521123393.1 | 申请日: | 2015-12-31 |
公开(公告)号: | CN205546196U | 公开(公告)日: | 2016-08-31 |
发明(设计)人: | 杨志刚;张志强;程文则;吴香兰 | 申请(专利权)人: | 武汉光谷创元电子有限公司 |
主分类号: | H05K1/03 | 分类号: | H05K1/03;B32B17/04;B32B17/06;B32B15/20;B32B27/04;C23C28/02;C23C28/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 刘林华;肖日松 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种刚性基板。该刚性基板(10)包括:基材(20),该基材(20)包括树脂基玻纤布,其中树脂包括环氧树脂、双马来酰亚胺三嗪树脂、氰酸酯树脂、聚苯醚树脂中的一种或多种;导电籽晶层(30),该导电籽晶层(30)包括位于基材(20)的表面(22)上方的等离子体沉积层(34);以及金属加厚层(40),该金属加厚层(40)形成于导电籽晶层(30)的上方。 | ||
搜索关键词: | 刚性 | ||
【主权项】:
一种刚性基板,包括:基材,所述基材包括树脂基玻纤布,其中树脂包括环氧树脂、双马来酰亚胺三嗪树脂、氰酸酯树脂、聚苯醚树脂中的一种;导电籽晶层,所述导电籽晶层包括位于所述基材的表面上方的等离子体沉积层;以及金属加厚层,所述金属加厚层形成于所述导电籽晶层的上方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉光谷创元电子有限公司,未经武汉光谷创元电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201521123393.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。