[发明专利]制造含有局部漂白区域的偏光元件的方法、制造偏光元件辊的方法以及制造单片式偏光元件的方法有效
| 申请号： | 201580000759.2 | 申请日： | 2015-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN105247395B | 公开（公告）日： | 2018-09-14 |
| 发明（设计）人： | 李范硕;张应镇;罗钧日;姜炯求;李炳鲜;崔斗赈;尹皓靖 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B29D11/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制造包含局部漂白区域的偏光元件的方法，包括下述步骤：提供包含基于聚乙烯醇的偏光器的偏光元件，在所述基于聚乙烯醇的偏光器中碘和二色性染料中的至少一者以特定方向定向；在所述偏光元件的一个表面上形成包含至少一个穿孔区域的掩模层；通过将所述偏光元件浸入漂白溶液中部分漂白形成有所述掩模层的偏光元件；以及校正经部分漂白的偏光元件的外观。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 含有 局部 漂白 区域 偏光 元件 方法 以及 单片 | ||
【主权项】：
1.一种制造包含局部漂白区域的偏光元件的方法，包括：提供包含基于聚乙烯醇的偏光器的偏光元件，在所述基于聚乙烯醇的偏光器中碘和二色性染料中的至少一者以特定方向定向；在所述偏光元件的一个表面上形成包含至少一个穿孔区域的掩模层；通过将所述偏光元件浸入漂白溶液中部分漂白形成有所述掩模层的偏光元件；校正经部分漂白的偏光元件的外观；以及在外观校正步骤之后洗涤和干燥所述偏光元件，其中，所述漂白溶液是pH为11至14的强碱性溶液，其中，校正经部分漂白的偏光元件的外观的步骤是使用将偏光元件浸入中和溶液中的方法而进行的，其中，所述中和溶液包含选自硫酸、柠檬酸和盐酸的一种或多种类型的中和剂，其中，消偏振区域在400nm至800nm的波长带中具有80％或更大的单体透射率，其中，消偏振区域具有10％或更小的偏光度，当所述偏光元件是偏光板时，除消偏振区域以外的偏光板中的区域的单体透射率为41％至46％，并且除消偏振区域以外的偏光板中的区域的偏光度为99％或更高。
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