[发明专利]镀铝溶液、铝膜、树脂结构体、铝多孔体以及铝多孔体的制造方法在审
| 申请号： | 201580001134.8 | 申请日： | 2015-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN105339529A | 公开（公告）日： | 2016-02-17 |
| 发明（设计）人： | 后藤健吾;细江晃久;西村淳一;奥野一树;木村弘太郎;境田英彰;本村隼一 | 申请（专利权）人： | 住友电气工业株式会社 |
| 主分类号： | C25D3/66 | 分类号： | C25D3/66;C25D1/08;C25D7/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 常海涛;高钊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种镀铝溶液，其具有可以进行镀铝的大的电流密度范围和小的溶液电阻。镀铝溶液包含：卤化铝，选自由烷基卤化咪唑鎓、烷基卤化吡啶鎓和尿素化合物构成的组中的至少一种，以及由通式(1)表示的铵盐，其中所述铵盐的浓度为1g/L以上45g/L以下：NR4+·X--通式(1)在所述通式中，R各自表示氢原子、或可能具有侧链的不超过15个碳原子的烷基，并且X表示卤原子。R可以彼此相同或不同。 | ||
| 搜索关键词： | 镀铝 溶液 铝膜 树脂 结构 多孔 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种镀铝溶液，包含：卤化铝；选自由烷基卤化咪唑鎓、烷基卤化吡啶鎓和尿素化合物构成的组中的至少一种；以及由通式(1)表示的铵盐，其中所述铵盐的浓度为1g/L以上45g/L以下：NR4+·X‑‑‑‑‑通式(1)其中，在所述通式中，R各自表示氢原子、或可具有侧链且具有15个以下的碳原子的烷基，X表示卤原子，并且R可以彼此相同或不同。
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